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江蘇赫菲斯半導體有限公司化學氣相沉積設備研發(fā)測試項目環(huán)評公示

發(fā)布者：無錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責任公司發(fā)布時間：4/9/2025 10:10:53 AM 點擊次數(shù)：923 關(guān)閉

項目名稱:化學氣相沉積設備研發(fā)測試項目

建設單位:江蘇赫菲斯半導體有限公司

地址:無錫市新吳區(qū)長江南路52-8號新港集成電路裝備零部件及材料產(chǎn)業(yè)園3層

環(huán)境影響評價機構(gòu):無錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責任公司

聯(lián)系電話:0510-68566079

郵箱:1xhb668@163.com

公眾提出意見的主要方式:電話、郵件

公示日期為2025年4月9日-2025年4月19日

電話：13812505289

郵箱：552168536@qq.com

地址：無錫市新吳區(qū)龍山路2-18號融智大廈E幢1302室

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產(chǎn)品列表: 環(huán)境影響評價; 建設項目環(huán)境保護設施竣工驗收; 突發(fā)環(huán)境事件風險評估及應急預案; 環(huán)保工程服務及設備運營維護; 企業(yè)環(huán)保顧問咨詢; 場地調(diào)查及評估; 國家排污許可證申領及維護

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